分子篩進(jìn)行加熱所需的蒸汽壓力、流量等要達(dá)到工藝設(shè)計(jì)要求。加熱再生過(guò)程可通過(guò)再生溫度曲線來(lái)判斷。

卸壓階段，由于壓力下降，分子篩的吸附容量減小，原來(lái)被吸附的水分和二氧化碳分子有部分解吸出來(lái)，溫度下降。

加熱階段，污氮?dú)膺M(jìn)口溫度迅速升高，但是出口溫度開(kāi)始還會(huì)繼續(xù)下降，然后才逐漸升高。因?yàn)榇藭r(shí)的熱量首先消耗在解吸所需的熱量上，將床層的中上部分子篩解吸，并將熱量貯存在床層中。這一階段對(duì)再生效果的影響因素是：氮?dú)饬髁?、加熱時(shí)間和再生溫度。主要是監(jiān)控污氮進(jìn)口溫度。

冷吹階段，污氮出口溫度會(huì)繼續(xù)升高。在該階段之初，是利用貯存在分子篩床層內(nèi)的熱量對(duì)下部的分子篩繼續(xù)進(jìn)行解吸，直至冷吹曲線的較高占--“冷吹峰值”該溫度是整個(gè)床層再生是否徹底的標(biāo)志。因?yàn)樵诔隹诓课惠^不容易再生徹底。如果該處的溫度能達(dá)到要求，內(nèi)部的溫度肯定要超過(guò)此溫度，表示內(nèi)部均已再生完畢。因此，在冷吹階段主要是監(jiān)視出口的峰值溫度。

迪爾空分在設(shè)備制作工藝設(shè)計(jì)有嚴(yán)格要求，相關(guān)系統(tǒng)都呈現(xiàn)技術(shù)規(guī)范。